WF6 maxime adhibetur ut materia rudis depositionis vaporis chemici (CVD) processus metalli tungsten in industria electronicorum. WSi2 facta ex WF6 adhiberi potest ut materia wiring in circuitibus amplissimis integratis (LSI), et etiam adhiberi potest ut materia rudis electrodes semiconductoris, materiae fluorinae rudis pro agentibus chemicis, polymerizationibus catalystis, materiis opticis, etc.